Mga kemikal na hilaw na materyales na polyurea na waterproof at anti-corrosion

Paglalarawan:

Dalawang-Komponenteng Polyurea: Advanced Protective Coating System

Ang aming two-component polyurea system ay binubuo sa pamamagitan ng tiyak na pagsasama ng dalawang magkaibang sangkap. Ang Sangkap A ay naglalaman ng espesyalisadong isocyanate prepolymer, samantalang ang Sangkap B ay may lamang amine-terminated polymer resins, dinisenyong chain extenders, at mga additive na nagpapahusay ng pagganap.

Kapag pinagsama ang mga komponenteng ito sa ilalim ng mataas na presyong paghalo, nag-trigger ito ng agarang proseso ng pagkakatuyo na lumilikha ng lubhang matibay na elastomeric na materyal. Ang advanced na reaktibong sistema na ito ay nagbibigay ng kamangha-manghang mekanikal na katangian, kabilang ang mahusay na tensile strength, kapansin-pansing elastisidad, at hindi pangkaraniwang paglaban sa pagkasira dulot ng kapaligiran.

Ang resultang seamless na membrano ay nagbibigay ng walang kapantay na proteksyon laban sa pagsulpot ng tubig, kemikal na korosyon, at abrasive wear, na ginagawa itong ideal na solusyon para sa mahihirap na industriyal at imprastruktura aplikasyon kung saan kritikal ang long-term performance.

Two-Component Polyurea: Mga High-Performance Protective Coatings

Ang advanced na pormulasyon ng hilaw na materyales na ito ay nagreresulta sa isang matibay na elastomer na kilala sa kahanga-hangang waterproofing nito, paglaban sa korosyon, at proteksyon laban sa pagnipis.

Mga Pangunahing Aplikasyon:

Infrastruktura at mga Proyektong Sibiko: Perpekto para sa pagbubuo ng waterproofing, inhinyeriyang bayan, at pangangalaga sa mga kritikal na istruktura tulad ng mga tumpok ng riles.

Matibay na Proteksyon sa Industriya: Naglilingkod sa mga sektor ng petrochemical, pagmamanupaktura ng sasakyan, paggawa ng barko, at inhinyeriyang militar.

Espesyalisadong Pagkontrol sa Kapaligiran: Ginagamit sa mga linings ng landfill, mga proyekto sa pagtatapon ng nuklear na basura, at iba pang mahihirap na larangan ng pagpigil.